• Главная
/
• Технологии компании «Плазмацентр»
/
• Плазменное осаждение

Технология плазменного осаждения

Сущность плазменного осаждения

Нанесение покрытий толщины менее 10 мкм путем конденсации компонентов паровой или газовой фазы в условиях обработки частицами высоких энергий в вакууме, осаждения высокоэнергетических ионов, а также атомов и молекул с участием плазмохимических процессов или использования плазменных струй, насыщенных парами реагентов и истекающих при атмосферном давлении.

Процессы плазменного осаждения

• плазменное при атмосферном давлении (финишное плазменное упрочнение) - нанесение покрытий за счет плазмохимических реакций реагентов, прошедших через дуговой или высокочастотный плазмохимический реактор;
• физическое осаждение из газовой фазы (PVD) или ионно-плазменное - процессы, происходящие в вакууме, в которых необходимый для получения покрытий материал за счет испарения или распыления переводится в газовую (паровую) фазу, которая имеет тот же состав, что и покрытие, а сам процесс происходит в присутствии нейтральных или химически активных газов;
• химическое осаждение из газовой фазы (CVD) – процессы, проводимые при атмосферном давлении в камерах (в отдельных случаях - вакуумных), за счет прохождения химических реакций используемых газообразных реагентов, при этом составы газовой фазы и покрытия существенно различаются.

Назначение плазменного осаждения

Изготовление деталей, технологической оснастки и инструмента, предусматривающее финишный способ модификации поверхности за счет нанесения тонкопленочных функциональных покрытий, обеспечивающих износостойкость, антифрикционность, коррозионностойкость, жаростойкость, разгаростойкость, антисхватывание, стойкость против фреттинг-коррозии и др. Основная цель применения плазменного осаждения - повышение надежности и долговечности изделий, придание декоративных свойств поверхности.

Выбор

Основывается на получении оптимальных адгезионных, физико-механических, трибологических и других функциональных характеристик покрытия при использовании конкретного материала основы, температуры процесса (интегральной температуры изделия, температуры контакта при взаимодействии фаз), длительности взаимодействия фаз (толщины покрытия) и других параметров.

Отличия плазменного осаждения

• Плазменное осаждение обеспечивает высокую адгезионную прочность покрытия к основе за счет применения физических процессов подготовки и активации поверхности (нагрева и предварительной очистки поверхностей тлеющим разрядом, бомбардировкой ионами инертных газов);
• отсутствие изменений (или незначительные изменения) параметров шероховатости поверхности после нанесения покрытий.